Machine
|
 Analysis Machine |
|
| 장비명 | 주사전자현미경 | 장비명(영문) | SEM(Scanning Electron Microscope) |
|---|---|---|---|
| 모델명 | Mira III | ||
| 제작국가 | 체코 | ||
| 제작사 | Tescan | ||
| 사양 |
1. Electron Gun 1) In-beam SE : 1.0 nm at 30 kV 2) BSE : 2.0 nm at 30 kV 3) Magnification at 30 kV : X2 ~ X1,000,000 2. Vacuum System 1) Chamber Vacuum : < 9×10-3 Pa 2) Gun Vacuum : < 3×10-7 Pa 3. Specimen Stage 1) Movements : X = 80 mm, Y = 60 mm, Z = 40 mm 2) Rotation : 360° 3) Tilt : –80° to +80° 4. Detectors : SE(Secondary electron detector), In-Beam SE Detector, Retractable BSE 5. EDS 장치 |
||
| 용도 | 주용도 : 렌즈 표면 분석 | ||
| 장비사진 | |||
